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經過多年的實踐，萊特萊德結合膜分離技術，采用反滲透、EDI裝置結合混床的模塊化設計工藝制備超純水，其水電阻率高達18 MΩ*cm(25℃)，符合芯片制造用水要求，具有環保、經濟、發展潛力巨大等諸多優勢，為芯...
硼是半導體生產過程中的一種P型雜質，過量會使N型硅反轉，從而影響電子和空穴的濃度。因此，在超純水行業中應充分考慮去除硼。...
現在的超純水生產工藝大多采用反滲透設備+EDI+拋光混床，無需再生藥劑，有效降低了運行成本。汽車芯片用超純水設備生產的水質電阻率可以達到18MΩ·CM，滿足汽車芯片用水的需求。...
經過多年實踐，萊特萊德結合采用反滲透、EDI裝置結合拋光混床的模塊化設計工藝制備超純水，其水電阻率高達18MΩ*cm(25℃)，符合芯片制造用水要求，具有環保、經濟、發展潛力巨大等諸多優點...
鋰電池超純水設備采用預處理、反滲透技術、超凈化處理和后處理方法，幾乎完全去除水中的導電介質，并將水中的非游離膠體物質、氣體和有機物去除到很低的程度。...
半導體行業在生產的時候需要大量的清洗水，隨著半導體工業的不斷發展，對清洗水的電導性、離子含量、TOC、DO、Particles要求也越來越嚴格。...
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