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半導體行業在生產的時候需要大量的清洗水，隨著半導體工業的不斷發展，對清洗水的電導性、離子含量、TOC、DO、Particles要求也越來越嚴格。...
超純水設備作為芯片生產過程中的標準設備，通常采用反滲透水處理設備、電離子(EDI)設備和拋光混合床制造超純水，使其出水滿足芯片生產用水的需求，成為芯片產業復興的堅強后盾。...
萊特萊德單晶硅超純水設備采用RO反滲透+EDI或混床拋光技術，根據不同用戶的需求，定制設計不同水質要求和不同水流量要求的超純水設備，具有水質穩定、操作簡便、運行成本低、綠色環保、易于維護等優點...
超純水設備能為芯片行業提供優質的超純水支持，萊特萊德以多項創新技術為依托，根據不同客戶的需求，整合優勢技術為廣大用戶提供高效優質的售后服務及高性價比的產品，構建共贏新模式。...
電子超純水設備采用獨特的靶向離子交換系統，可連續去除超純水中難以處理的硼和其他離子穩定生產高純度的超純水。...
超純水技術不斷完善，開啟了各行業生產發展的新局面。許多企業在生產過程中對水質純度有不同的要求，并得到了廣泛的應用，如清洗設備用水、精密產品生產用水、檢測用水等。...
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