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芯片生產無法離開的超純水是如何制備的?

2023-03-16

  現如今,信息技術加速迭代發展,電子芯片的發展成為了各界關注的焦點。隨著我國越來越多的產業生產離不開芯片,人們開始認識到芯片生產的重要性,而芯片的生產離不開超純水,今天我們就來介紹芯片生產需要超純水是如何制備的。

  據了解,一顆芯片要經過幾十道工藝技術,每一道工藝或許都是代表著高科技水平,因此芯片在生產過程中對于用水水質的要求是非常高的,水中的雜質對芯片的影響非常大。而超純水是指電阻率達到18 MΩ·cm的水,這種水中除了水分子外,幾乎沒有什么雜質,完全滿足芯片生產用水需求。

  那么,傳統的超純水制備工藝通常是采用離子交換樹脂進行制取,但采用離子交換樹脂通常需要定期進行樹脂再生,即耗費物力又浪費人工。目前,市面上主要采用的反滲透技術、EDI技術和拋光混床技術來制備超純水,該工藝與傳統工藝相比具有抗污染能力強、節能環保、產水水質穩定、脫鹽率高、系統內無死水等優勢。

超純水設備

  使用上述工藝的超純水設備還具有良好的實用價值,可實現自動控制,從某種程度上而言,可以有效的達到我國電子級水質標準,具有自動化程度高,過程易實現自動控制,產水水質穩定等優勢。

  綜上,隨著芯片研發技術的加快,我國要做的就是擺脫芯片進口依賴,加強相關產業的發展,為未來芯片技術的發展打好堅實的基礎。

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  編輯:柒柒 技術:木子

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