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超純水生產工藝大多采用反滲透設備+EDI超純水系統+精處理混床，不需要回收化學品的再生，有效降低了運行成本。出水水質除水分子外幾乎不含雜質，電阻率可達18mΩ·cm，EDI超純水系統解鎖清洗用水水質。...

芯片超純水設備可將水中的導電介質幾乎完全去除，又將水中不離解的膠體物質、氣體及有機物均去除至很低程度。
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萊特萊德超純水設備可以連續穩定地制備高質量的超純水，不會因為樹脂再生而停止運行，設備內部還安裝了反滲透預脫鹽技術，這又從根本上保證了設備的出水質量，具有較高的環境和經濟效益，發展前景廣闊。...

萊特萊德電子超純水設備采用靶向離子交換系統，可連續去除超純水中難以處理的硼等離子體。穩定生產高純度超純水。廣泛應用于晶圓、電子芯片、集成電路、精密儀器、電鍍涂層、試劑稀釋、氟化工等領...

萊特萊德通過很多年實踐活動，選用反滲透水處理設備與電去離子(EDI)機器設備及打磨拋光陽離子樹脂緊密結合的方法來制取超純水，這也是一種制取超純水的新技術新工藝，出水量電阻可達18MΩ*cm(25℃)，符...

超純水設備選用反滲透裝置、電去離子(EDI)設備和打磨拋光陽離子樹脂緊密結合的方法來制取超純水，是一種生產制造超純水的新技術新工藝，其出水量電阻可達18MΩ*cm(25℃)，符合芯片生產制造用水要求，設...