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超純水設備主要采用反滲透工藝和EDI工藝以及拋光混床工藝聯合制備超純水，這樣可以將水中的導電介質幾乎完全去除，又將水中不分解的膠體物質、氣體及有機物均去除至很低程度。...
超純水設備經過多年實踐檢驗，采用反滲透、EDI裝置結合拋光混床模塊化設計工藝，并結合膜分離技術，出水電阻率可達18 MΩ*cm(25℃)，能夠用來為化學實驗生產質量穩定的超純水。...
超純水設備可以去除水中的微粒、有機物、無機物和其他雜質，確保水質達到極高純度，從而保證硅晶圓的質量。...
EDI超純水設備是生產超純水的專用技術設備，采用了“反滲透+EDI+混床拋光”相結合的技術工藝，確保產出的超純水質量符合《儀器分析用高純水規格及試驗方法》中規定的超純水電阻率一般大于18MΩ?cm...
超純水設備能夠達到出水連續、無酸堿再生、無人值守、安裝簡單、操作方便的理想質量。...
超純水設備應用的EDI模塊水處理過程中不需要添加任何化學品，不僅減少了化學品運輸問題，同時降低了系統運行費用。...
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