芯片生產(chǎn)對(duì)水質(zhì)的要求嚴(yán)苛，需達(dá)到電子級(jí)超純水標(biāo)準(zhǔn)，其主要指標(biāo)包括低電導(dǎo)率、近乎零的顆粒物與微生物含量，以及嚴(yán)格控制的金屬離子濃度。傳統(tǒng)超純水處理工藝多采用離子交換樹(shù)脂技術(shù)，雖能實(shí)現(xiàn)水質(zhì)凈化，但存在樹(shù)脂再生頻繁、人工物力消耗大、廢水排放多等弊端，難以適應(yīng)現(xiàn)代化大規(guī)模芯片生產(chǎn)的需求。

　　超純水設(shè)備通過(guò)優(yōu)化工藝配置，構(gòu)建了多級(jí)精密處理體系。預(yù)處理系統(tǒng)由多介質(zhì)過(guò)濾器、活性炭過(guò)濾器、精密過(guò)濾器等組成，可依次去除原水中的懸浮物、膠體、有機(jī)物、余氯等雜質(zhì)，降低水質(zhì)濁度，為后續(xù)深度處理提供優(yōu)質(zhì)進(jìn)水條件。RO 反滲透主機(jī)系統(tǒng)利用半透膜的選擇透過(guò)性，截留水中的溶解鹽類(lèi)、大分子有機(jī)物及細(xì)菌病毒等，使水質(zhì)得到初步純化，電導(dǎo)率顯著降低。EDI 電除鹽系統(tǒng)作為核心環(huán)節(jié)，結(jié)合離子交換樹(shù)脂與電場(chǎng)作用，通過(guò)陽(yáng)陰離子膜的定向遷移實(shí)現(xiàn)離子深度去除，同時(shí)利用水電解產(chǎn)生的氫離子和氫氧根離子對(duì)樹(shù)脂進(jìn)行連續(xù)再生，無(wú)需傳統(tǒng)化學(xué)藥劑，可穩(wěn)定產(chǎn)出高純度超純水。部分工藝還配備拋光混床，進(jìn)一步提升水質(zhì)精度，確保各項(xiàng)指標(biāo)滿足芯片生產(chǎn)的嚴(yán)苛要求。

　　與傳統(tǒng)工藝相比，超純水設(shè)備具有顯著優(yōu)勢(shì)。自動(dòng)化控制系統(tǒng)可實(shí)現(xiàn)全流程智能監(jiān)控與調(diào)節(jié)，實(shí)時(shí)顯示水質(zhì)參數(shù)與設(shè)備運(yùn)行狀態(tài)，降低人工操作強(qiáng)度的同時(shí)保障產(chǎn)水水質(zhì)穩(wěn)定。設(shè)備運(yùn)行過(guò)程中無(wú)需頻繁進(jìn)行樹(shù)脂再生，減少了化學(xué)藥劑使用與廢水排放，符合綠色生產(chǎn)理念。此外，模塊化設(shè)計(jì)使其可根據(jù)芯片生產(chǎn)線的用水需求靈活調(diào)整處理規(guī)模，從中小型車(chē)間到大型晶圓廠均能適配，展現(xiàn)出強(qiáng)大的適用性與擴(kuò)展性。

　　在芯片生產(chǎn)流程中，超純水主要用于硅片清洗、光刻膠剝離、蝕刻液配制等關(guān)鍵工序。水質(zhì)的穩(wěn)定性直接影響芯片表面的潔凈度與工藝精度，進(jìn)而決定產(chǎn)品良率與性能。超純水設(shè)備通過(guò)多級(jí)過(guò)濾與深度除鹽，有效控制水中的顆粒污染物與離子雜質(zhì)，為芯片制造提供可靠的水質(zhì)保障，助力企業(yè)提升生產(chǎn)效率與產(chǎn)品質(zhì)量。